用于半導體生產中晶圓處理的伸縮式氣缸系統
專用鍍膜機用于在硅盤，晶圓上高真空生產半導體。大約數千個半導體可以位于一個12英寸晶圓上。對于不同的工藝，晶圓必須在機器內部移動幾次。直徑為 180 mm 和 280 mm 的伸縮式氣缸位于機器中的環形位置，并在每個周期后切換，用于處理晶圓。該過程所需的不同介質通過活塞桿。
6、應用程序關系.sys。工程
我們在設計和實施流體工程系統方面非常靈活。無論是在壓力產生和處理領域，還是在驅動、控制和移動領域。
帶集成球導軌的氣缸系統，用于半導體生產中的晶圓處理
該圓柱體系統在半導體生產過程中定位打印掩模。外殼由一個塊加工而成。集成的滾珠導軌可實現兩個氣缸的最高精度和再現性。氣缸的多個位置可以通過集成傳感器進行監控。可調節的終端位置阻尼器可確保無振動工作。
7、應用程序關系.sys。工程
我們在設計和實施流體工程系統方面非常靈活。無論是在壓力產生和處理領域，還是在驅動、控制和移動領域。
多缸體，設計緊湊
該缸體用于裝配自動化系統。由于與給定的中心線距離相結合的力增加，因此無法使用標準氣缸。氣缸孔按照定制的特定距離制造。氣缸位置可以通過盲板單獨淡出。磁簧活塞和用于干簧傳感器的安裝槽可實現精確的終端位置監控。
8、應用程序關系.sys。工程
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用于刀具夾緊的高溫氣缸
該氣缸的最高工作溫度為 300 °C。 它們驅動夾緊系統，用于固定用于熱處理的零件。因此，氣缸被沖出，驅動夾緊機構，然后氣缸減壓。內部鎖定機構將桿鎖定在前端位置。氣缸與夾緊系統一起加熱至300°C的溫度。 特殊的密封和潤滑系統保證了長期使用。
9、應用程序關系.sys。工程
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用于彈性體噴射成型鑄造的鼓風筒
當噴射成型大型彈性體部件時，鑄件通過加壓空氣從鑄造模具表面吹出。氣缸保持送氣孔在施加壓力時保持關閉。為了吹掉零件，氣缸被向后沖并打開內部供應孔。氣缸不旋轉，以確保氣缸和模具表面之間的正確位置
10、應用程序關系.sys。工程
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用于磨臺移動的 4 級伸縮式油缸
為了提升磨床的磨臺，使用這種單作用伸縮式氣缸中的4個。在最小高度為120 mm時，該氣缸可提供260 mm的行程。為避免通過研磨水腐蝕，氣缸的所有部件都涂有涂層。
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