德國 MLase 用于工業應用的準分子激光器具有切割打孔、標記雕刻、焊接釬焊等功能，廣泛應用于電子、半導體、材料加工等行業。MLase 準分子激光器為工業應用提供了高效、穩定的紫外光源，在材料加工等領域應用廣泛。

MLase 準分子激光器覆蓋所有典型波長（193nm、248nm、308nm），每脈沖能量范圍高達 200mJ 以上，脈沖重復率高達 1,000 Hz。

 

特點：

能量穩定：光束輪廓均勻，能量穩定性≤2%，可確保工業加工過程的一致性和穩定性，適用于要求苛刻的應用場景。

高可靠性：采用全金屬密封管等技術，激光腔壽命大于 20 億次脈沖，具有較長的使用壽命和高可靠性，且維護成本低。

結構緊湊：為緊湊型設計，尺寸較小，如 MLI-200 尺寸為 560x315x445mm，重量 75kg，易于操作和集成到各種工業生產系統中。

多種冷卻方式：部分型號如 MLI-200 默認風冷，后綴為 LC 的型號還可選主動水冷，可通過家用水或外部熱交換器冷卻，無需去離子水，能實現穩定的連續運行。

 

主要參數：

波長：氣體介質為 ArF 時波長為 193nm，氣體介質為 KrF 時波長為 248nm。

重復頻率：有 200Hz、500Hz、1000Hz 等多種選擇。

脈沖能量：標準型單脈沖能量為 8mJ 或 12mJ，高功率型單脈沖能量可達 12mJ 或 16mJ。

脈沖寬度：一般為 5-10ns，部分型號在 5-15ns 范圍內。

尺    寸：560x355x445毫米（不含突出部件）。

 

工業應用包括：

光纖布拉格光柵 （FBG） 的書寫

光學檢測和計量，例如測試微光學器件

激光結構和劃線

陶瓷、金屬或塑料等材料的微加工

激光燒蝕/脈沖激光沉積（PLD、ICP-MS）

在半導體制造中，用于檢測掩?；蛑苯泳A加工

 

主要型號介紹：

MLI-200：最大重復頻率為 200Hz，當氣體介質為 ArF 時，波長為 193nm，穩定脈沖能量為 6mJ，穩定脈沖功率為 1.2W，能量穩定性為 2%，梁尺寸為 6x3mm，光束發散度為 2x1mrad，脈沖持續時間為 5-10ns。

MLI-500：最大重復頻率為 500Hz，氣體介質為 ArF 時波長為 193nm，氣體介質為 KrF 時波長為 248nm。ArF 介質下穩定脈沖能量為 6mJ，KrF 介質下為 10mJ，對應穩定脈沖功率分別為 3.0W 和 5.0W，能量穩定性為 2%。梁尺寸在 ArF 介質下為 6x3mm，KrF 介質下有 6x3mm 或 6x6mm 等規格，光束發散度為 2x1mrad，脈沖持續時間為 5-10ns 或 5-15ns。

MLI-1000：最大重復頻率可達 1000Hz，氣體介質為 KrF 時波長為 248nm，穩定脈沖能量為 10mJ，穩定脈沖功率為 10W，能量穩定性為 2%，梁尺寸為 6x3mm，光束發散度為 2x1mrad，脈沖持續時間為 5-15ns。

 

型號系列：

MLI-200

MLI-500

MLI-1000

MLI-500LC

MLI-1000LC

MLI-ARF1000LC

MLI-HP200 KRF-FBG

MLI-500 KrF

MLI 500 KrF HP

MLI-1000KrF