Langer EMV-Technik 抗擾度開發(fā)系統(tǒng)介紹
朗格Langer EMV-Technik處于EMC領(lǐng)域的研究，開發(fā)和生產(chǎn)的最前沿。通過EMC實(shí)驗(yàn)研討會(huì)和EMC研討會(huì)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝巳娴闹R(shí)。
我們的 干擾發(fā)射 和 抗干擾性 EMC測(cè)量技術(shù)以及IC測(cè)試系統(tǒng)主要用于開發(fā)階段，并且在全球范圍內(nèi)都有需求。
E1是一組EMC工具，用于在開發(fā)階段抑制印刷電路板中的EMI。開發(fā)人員可以使用E1集快速識(shí)別突發(fā)和ESD干擾的原因。這使開發(fā)人員可以設(shè)計(jì)適當(dāng)?shù)拇胧﹣斫鉀Q干擾的原因。它也可以用來測(cè)試所采取措施的有效性。E1測(cè)試裝置很小，可輕松安裝在開發(fā)人員的桌子上。E1集用戶手冊(cè)介紹了EMC機(jī)制，并詳細(xì)描述了用于抑制印刷電路板中干擾的基本測(cè)量策略。E1集包括一個(gè)發(fā)生器，用于產(chǎn)生突發(fā)和ESD干擾。
E1套裝，抗擾度開發(fā)系統(tǒng)
供貨范圍：1個(gè)SGZ 21、1個(gè)S21、1個(gè)BS 02、1個(gè)BS 04DB，
1個(gè)BS 05D，1個(gè)BS 05DU，1個(gè)ES 00、1個(gè)ES 01、1個(gè)ES 02，
1個(gè)ES 05D，1個(gè)ES 08D，1個(gè)MS 02、1個(gè)E1 acc，1個(gè)NT FRI EU，
1x E1表殼，1x E1 m
供貨范圍
· 1倍SGZ 21，脈沖發(fā)生器
· 1倍S21，光學(xué)傳感器（10 Mbps）
· 1倍BS 02，磁場(chǎng)源
· 1倍BS 04DB，磁場(chǎng)源
· 1倍BS 05D，磁場(chǎng)源
· 1倍BS 05DU，磁場(chǎng)源
· 1倍ES 00，電場(chǎng)源
· 1倍ES 01，電場(chǎng)源
· 1倍ES 02，電場(chǎng)源
· 1倍ES 05D，電場(chǎng)源
· 1倍ES 08D，電場(chǎng)源
· 1倍MS 02，磁場(chǎng)探頭
· 1倍E1 acc，配件
· 1倍NT FRI EU，電源裝置
· 1倍E1案例，系統(tǒng)案例
· 1倍E1 m，E1設(shè)置用戶手冊(cè)
主要型號(hào)：
德國(guó)LANGER EMV-Technik BD06B
德國(guó)LANGER EMV-Technik BD01B
德國(guó)LANGER EMV-Technik BD01E
德國(guó)LANGER EMV-Technik BD11
德國(guó)LANGER EMV-Technik MFA 01
德國(guó)LANGER EMV-Technik XF 1
德國(guó)LANGER EMV-Technik SX
德國(guó)LANGER EMV-Technik MFA01
德國(guó)LANGER EMV-Technik MFA02
德國(guó)LANGER EMV-Technik SX1
德國(guó)LANGER EMV-Technik XF1
德國(guó)LANGER EMV-Technik XF
德國(guó)LANGER EMV-Technik RF1
德國(guó)LANGER EMV-Technik RF2
德國(guó)LANGER EMV-Technik RF3
德國(guó)LANGER EMV-Technik RF4-E
德國(guó)LANGER EMV-Technik RF-E
德國(guó)LANGER EMV-Technik LF1
德國(guó)LANGER EMV-Technik LF
德國(guó)LANGER EMV-Technik PA203
德國(guó)LANGER EMV-Technik PA303
德國(guó)LANGER EMV-Technik RFS
德國(guó)LANGER EMV-Technik VM251
Langer EMV-Technik 抗擾度開發(fā)系統(tǒng)介紹
譚晶
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